规格级别 | 外观颜色 | ||
该料用途 | |||
备注说明 |
性能项目 | 试验条件[状态] | 测试方法 | 测试数据 | 数据单位 | |
物理性能 | 比重2 | ASTMD792 | 0.921 | g/cm³ | |
物理性能 | 熔流率(熔体流动速率)2(190°C/2.16kg) | ISO1133 | 1.1 | g/10min | |
机械性能 | 摩擦系数3(与自身-动态) | ASTMD1894 | 0.24 | ||
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 50 | µm | ||
薄膜 | 膜刺穿强度3(50µm) | ASTMD5748 | 3.50 | J | |
薄膜 | 膜刺穿力3(50µm) | ASTMD5748 | 54.0 | N | |
薄膜 | 拉伸模量3 | 2%正割,MD:50µm | ISO527-3 | 198 | MPa |
薄膜 | 拉伸模量3 | 2%正割,TD:50µm | ISO527-3 | 238 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力3 | MD:屈服,50µm | ISO527-3 | 7.50 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力3 | TD:屈服,50µm | ISO527-3 | 8.00 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力3 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 38.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力3 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 37.0 | MPa |
薄膜 | 伸长率3 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 810 | % |
薄膜 | 伸长率3 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 920 | % |
薄膜 | 落锤冲击3(50µm) | ISO7765-1/A | 450 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度3 | MD:50µm | ASTMD1922 | 890 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度3 | TD:50µm | ASTMD1922 | 1100 | g |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 50 | µm | ||
薄膜 | 膜刺穿强度3(50µm) | ASTMD5748 | 3.50 | J | |
薄膜 | 膜刺穿力3(50µm) | ASTMD5748 | 54.0 | N | |
薄膜 | 拉伸模量3 | 2%正割,MD:50µm | ISO527-3 | 198 | MPa |
薄膜 | 拉伸模量3 | 2%正割,TD:50µm | ISO527-3 | 238 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力3 | MD:屈服,50µm | ISO527-3 | 7.50 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力3 | TD:屈服,50µm | ISO527-3 | 8.00 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力3 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 38.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力3 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 37.0 | MPa |
薄膜 | 伸长率3 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 810 | % |
薄膜 | 伸长率3 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 920 | % |
薄膜 | 落锤冲击3(50µm) | ISO7765-1/A | 450 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度3 | MD:50µm | ASTMD1922 | 890 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度3 | TD:50µm | ASTMD1922 | 1100 | g |
热性能 | 维卡软化温度2 | ASTMD1525 | 104 | °C | |
光学性能 | 光泽度3(45°,50.0µm) | ASTMD2457 | 61 | ||
光学性能 | 雾度3(50.0µm) | ISO14782 | 8.9 | % |