| 规格级别 | 外观颜色 | ||
| 该料用途 | |||
| 备注说明 | |||
| 性能项目 | 试验条件[状态] | 测试方法 | 测试数据 | 数据单位 | |
| 物理性能 | 比重 | ASTMD792 | 0.918 | g/cm³ | |
| 物理性能 | 熔流率（熔体流动速率）(190°C/2.16kg) | ISO1133 | 0.85 | g/10min | |
| 薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 50 | µm | ||
| 薄膜 | 膜刺穿强度(50µm) | ASTMD5748 | 5.80 | J | |
| 薄膜 | 膜刺穿力(50µm) | ASTMD5748 | 76.0 | N | |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,MD:50µm | ISO527-3 | 139 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,TD:50µm | ISO527-3 | 147 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:屈服,50µm | ISO527-3 | 7.50 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:屈服,50µm | ISO527-3 | 6.30 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 39.0 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 40.0 | MPa |
| 薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 560 | % |
| 薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 670 | % |
| 薄膜 | 落锤冲击(50µm) | ISO7765-1/A | 480 | g | |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | MD:50µm | ASTMD1922 | 560 | g |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | TD:50µm | ASTMD1922 | 910 | g |
| 薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 50 | µm | ||
| 薄膜 | 膜刺穿强度(50µm) | ASTMD5748 | 5.80 | J | |
| 薄膜 | 膜刺穿力(50µm) | ASTMD5748 | 76.0 | N | |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,MD:50µm | ISO527-3 | 139 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,TD:50µm | ISO527-3 | 147 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:屈服,50µm | ISO527-3 | 7.50 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:屈服,50µm | ISO527-3 | 6.30 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 39.0 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 40.0 | MPa |
| 薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 560 | % |
| 薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 670 | % |
| 薄膜 | 落锤冲击(50µm) | ISO7765-1/A | 480 | g | |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | MD:50µm | ASTMD1922 | 560 | g |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | TD:50µm | ASTMD1922 | 910 | g |
| 热性能 | 维卡软化温度 | ASTMD1525 | 107 | °C | |
| 光学性能 | 光泽度(45°,50.0µm) | ASTMD2457 | 43 | ||
| 光学性能 | 雾度(50.0µm) | ISO14782 | 18 | % | |
