规格级别 | 外观颜色 | ||
该料用途 | |||
备注说明 |
性能项目 | 试验条件[状态] | 测试方法 | 测试数据 | 数据单位 | |
物理性能 | 密度 | ASTMD1505 | 0.950 | g/cm³ | |
物理性能 | 熔流率(熔体流动速率)(190°C/2.16kg) | ASTMD1238 | 0.95 | g/10min | |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 51 | µm | ||
薄膜 | 膜耐刺穿性(51µm) | 内部方法 | 1.21 | J/cm³ | |
薄膜 | 割线模量 | 2%正割,MD:51µm | ASTMD882 | 573 | MPa |
薄膜 | 割线模量 | 2%正割,TD:51µm | ASTMD882 | 726 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | MD:屈服,51µm | ASTMD882 | 24.1 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | TD:屈服,51µm | ASTMD882 | 30.1 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | MD:断裂,51µm | ASTMD882 | 42.2 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | TD:断裂,51µm | ASTMD882 | 41.8 | MPa |
薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,51µm | ASTMD882 | 1100 | % |
薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,51µm | ASTMD882 | 1200 | % |
薄膜 | 落锤冲击(51µm) | ASTMD1709A | 120 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | MD:51µm | ASTMD1922 | 40 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | TD:51µm | ASTMD1922 | 110 | g |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 51 | µm | ||
薄膜 | 膜耐刺穿性(51µm) | 内部方法 | 1.21 | J/cm³ | |
薄膜 | 割线模量 | 2%正割,MD:51µm | ASTMD882 | 573 | MPa |
薄膜 | 割线模量 | 2%正割,TD:51µm | ASTMD882 | 726 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | MD:屈服,51µm | ASTMD882 | 24.1 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | TD:屈服,51µm | ASTMD882 | 30.1 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | MD:断裂,51µm | ASTMD882 | 42.2 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | TD:断裂,51µm | ASTMD882 | 41.8 | MPa |
薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,51µm | ASTMD882 | 1100 | % |
薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,51µm | ASTMD882 | 1200 | % |
薄膜 | 落锤冲击(51µm) | ASTMD1709A | 120 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | MD:51µm | ASTMD1922 | 40 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | TD:51µm | ASTMD1922 | 110 | g |
光学性能 | 光泽度(45°,50.8µm) | ASTMD2457 | 45 | ||
光学性能 | 雾度(50.8µm) | ASTMD1003 | 23 | % |