规格级别 | 外观颜色 | ||
该料用途 | |||
备注说明 |
性能项目 | 试验条件[状态] | 测试方法 | 测试数据 | 数据单位 | |
物理性能 | 密度 | ISO1183 | 0.900 | g/cm³ | |
物理性能 | 熔流率(熔体流动速率)(230°C/2.16kg) | ISO1133 | 0.80 | g/10min | |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 50 | µm | ||
薄膜 | 膜刺穿强度(50µm) | ASTMD5748 | 4.40 | J | |
薄膜 | 膜刺穿力(50µm) | ASTMD5748 | 92.0 | N | |
薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,MD:50µm | ISO527-3 | 624 | MPa |
薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,TD:50µm | ISO527-3 | 584 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力 | MD:屈服,50µm | ISO527-3 | 34.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力 | TD:屈服,50µm | ISO527-3 | 24.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 50.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 36.0 | MPa |
薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 590 | % |
薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 670 | % |
薄膜 | 落锤冲击(50µm) | ISO7765-1/A | 160 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | MD:50µm | ASTMD1922 | 26 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | TD:50µm | ASTMD1922 | 57 | g |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 50 | µm | ||
薄膜 | 膜刺穿强度(50µm) | ASTMD5748 | 4.40 | J | |
薄膜 | 膜刺穿力(50µm) | ASTMD5748 | 92.0 | N | |
薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,MD:50µm | ISO527-3 | 624 | MPa |
薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,TD:50µm | ISO527-3 | 584 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力 | MD:屈服,50µm | ISO527-3 | 34.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力 | TD:屈服,50µm | ISO527-3 | 24.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 50.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 36.0 | MPa |
薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 590 | % |
薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 670 | % |
薄膜 | 落锤冲击(50µm) | ISO7765-1/A | 160 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | MD:50µm | ASTMD1922 | 26 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | TD:50µm | ASTMD1922 | 57 | g |
光学性能 | 光泽度(45°,50.0µm) | ASTMD2457 | 19 | ||
光学性能 | 雾度(50.0µm) | ISO14782 | 36 | % |